電阻帶的氧化全過(guò)程

電阻器的整個(gè)氧化過(guò)程根據(jù)其氧化速度可分為以下三個(gè)階段:

階段是:氧化膜生成階段。在早期，合金被迅速氧化。氧化速率高后，氧化速率逐漸減慢。當(dāng)表面形成連續(xù)氧化膜時(shí)，氧化速度再次減慢，氧化進(jìn)入第二階段。

在這個(gè)階段，氧化速率與時(shí)間的關(guān)系是一個(gè)離散的系統(tǒng)，氧化膜是一個(gè)層狀結(jié)構(gòu)。

在氧化膜形成的早期，合金中的銫、硅、鉻等易氧化元素迅速與氧氣融合產(chǎn)生相應(yīng)的氧化物，這些氧化物附著在合金表面，產(chǎn)生連續(xù)的氧化膜。同時(shí)，合金中的鋁、硅、鉻等元素?cái)U(kuò)散到表面并聚集在新的氧化膜下。

其次，第二階段是:氧化膜的穩(wěn)定階段。當(dāng)在合金表面形成連續(xù)的氧化膜時(shí)，氧向合金中的滲透速率再次降低。此時(shí)，仍有少量的氧氣可以根據(jù)氧化膜與聚集在氧化膜下的合金元素發(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生內(nèi)部氧化層。

在這個(gè)階段，合金以非常慢的速度被氧化。經(jīng)過(guò)長(zhǎng)時(shí)間的高溫作用，氧化膜的相對(duì)密度增加，厚度增加，合金的氧化與時(shí)間成線性關(guān)系。

氧化穩(wěn)定階段越長(zhǎng)，合金的使用壽命越長(zhǎng)。

第三階段是氧化膜破壞階段。當(dāng)合金內(nèi)部氧化的發(fā)展趨勢(shì)達(dá)到一定程度時(shí)，氧化膜逐漸出現(xiàn)裂紋，使大量氧氣進(jìn)入合金內(nèi)部，鐵、鋁、硅、鉻等宏觀元素被氧化，促使氧化速度大大提高。同時(shí)，氧化膜中逐漸出現(xiàn)裂紋，導(dǎo)致破壞。

我想告訴大家，電阻帶的整個(gè)氧化過(guò)程反映了電熱材料破壞的全過(guò)程中，如何創(chuàng)造出具有維持作用的氧化膜，合金穩(wěn)定氧化階段的發(fā)展趨勢(shì)對(duì)于增加電阻帶的使用周期具有關(guān)鍵的現(xiàn)實(shí)意義。